应用场景：半导体前段制程设备如ETCH、CVD、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等设备中，提供更高的良率。 

V 系列MFC：采用独特双阀 + 压降 + 位置传感 设计测量精度可达±0.5% S.P. (0.5-100% F.S.)响应速度领先，最快可达≤ 50ms。 

P 系列MFC：采用改进单阀 + 压差 + 位置传感 设计测量精度±1.0% S.P. (10%-100% F.S.)响应速度≤300ms。

T 系列MFC：采用热式传感器+低热电磁阀+压力传感技术满足主流测量精度 ≤±1.0% S.P.(25%-100% F.S.)重复性对标行业领先产品 (≤±0.2% F.S. )。 

E 系列MFC：成熟稳定的热式传感技术、高性价比非半导体解决方案、适用量程范围包括 2 sccm ~ 500 slm支持440多种气体。

参数指标：

销售电话：156o183736o