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其他产品业务
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先导元创精密 碳化硅部件聚焦环
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商品介绍
应用场景：刻蚀设备中，放在晶圆外部，施加电压到环上，从而聚焦通过环的等离子体；提高刻蚀的一以及准确性致性，并保护腔体以及刻蚀设备。
特点和指标：由 CVD方法合成，组分为 SiC多晶，结晶性良好，内部的晶型取向以 (111) 主导；采用美国先进 CVD沉积技术，负压沉积，前驱体转化率 90% 以上，特殊的表面处理技术，提高产品使用寿命。
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产品性能 |
指标 |
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晶相 |
（111 ）Preferred |
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纯度 |
> 6N ( 详见右表 ) |
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电阻率(Ω·cm ） |
10-3 ～ 104 |
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晶粒尺寸(μm ） |
0.5 ～ 10 |
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密度（g/cm3） |
3.2 |
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硬度（GPa ） |
23 - 35 |
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热导率（W/m·K ） |
120 - 240 |
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热膨胀系数（x 10-6/K ） |
3.8 - 4.5±0.5 |
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模量（GPa ） |
4 - 20 |
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强度（MPa ） |
400 - 750 |
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杂质元素 |
wt - ppm |
杂质元素 |
wt - ppm |
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Al |
＜ 0.05 |
Mn |
＜ 0.01 |
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Ca |
＜ 0.05 |
Mo |
＜ 0.05 |
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Cr |
＜ 0.1 |
Ni |
＜ 0.3 |
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Co |
＜ 0.01 |
K |
＜ 0.01 |
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Cu |
＜ 0.05 |
Na |
＜ 0.08 |
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Fe |
＜ 0.1 |
Ti |
＜ 0.01 |
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Li |
＜ 0.01 |
V |
＜ 0.005 |
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Mg |
＜ 0.01 |
Zn |
＜ 0.01 |
销售电话：156o183736o
